В компании пообещали, что аморфный нитрид бора будут применять в полупроводниках, в том числе в решениях DRAM и NAND.
Не пропустите Графеновая "броня" улучшила характеристики солнечных панелей
Что дает новый материал
Аморфный нитрид бора состоит из атомов бора и азота с аморфной структурой толщиной в одну молекулу. Он был получен из "белого графена" – нитрида бора, в котором атомы бора и азота построены в кристаллическую решетку в форме шестиугольника. Именно в расположении элементов кроется ключевое отличие между материалами.
Новый материал применят в разработке полупроводников следующего поколения
По словам исследователей, аморфный нитрид бора имеет лучшую в своем классе сверхнизкую диэлектрическую проницаемость 1,78. Кроме того, данный материал характеризуется сильными электрическими и механическими свойствами. Он может использоваться в качестве изоляции в соединениях для минимизации электрических помех.
Сфера применения
Новый материал можно производить в достаточно больших масштабах при относительно низкой температуре в 400°C. В Samsung намерены начать использовать аморфный нитрид бора для создания модулей оперативной (DRAM) и постоянной (NAND) памяти, однако говорить о сроках появления готовой продукции пока еще рано.