Розроблено швидший та ефективніший метод виробництва мікросхем, який може змінити індустрію

Михайло Года

Основні тези

Дослідники розробили новий метод виробництва мікросхем за допомогою форм, заповнених рідким металом, що значно зменшує відсоток браку.
Хоча новий метод не досягає найсучасніших технологічних розмірів, його простота та швидкість роблять його придатним для застосувань у фотоніці та електроніці.
Виготовлені елементи є чутливими до світла та електричного струму, що відкриває можливості для передових фотонних та електронних застосувань.
Інноваційний підхід може доповнити традиційні методи виробництва мікросхем, пропонуючи економічно ефективну альтернативу для певних випадків використання.

Нове відкриття дозволить робити менші мікросхеми швидше й ефективніше / NC State University

Дослідники з Університету штату Північна Кароліна представили революційну методику виробництва мікросхем з елементами нанометрового розміру. Цей інноваційний метод спрощує виробництво мікросхем, водночас значно зменшуючи відсоток браку, що знаменує собою потенційний зсув у виробничих процесах напівпровідників.

Новий процес полягає у використанні форм, заповнених рідким металом, замість традиційних методів, що передбачають використання масок, травлення та багатоетапну обробку, повідомляє 24 Канал з посиланням на New Atlas.

А тим часом Революційна технологія дозволяє редагувати окремі атоми в молекулах

Як працює нова технологія

Вчені використовували легкоплавкий сплав, відомий як метал Філда, що складається з індію, вісмуту та олова. Цей рідкий метал окислюється, утворюючи поверхневий оксидний шар, який потім обробляється розчином, що містить ліганди – молекули, які зв'язуються з іонами металу.

Рідина з лігандами проникає у форму завдяки капілярній дії. Після випаровування та контрольованого нагрівання до 600°C матеріал застигає в наноструктури для транзисторів і діодів. Цей процес також залишає після себе графенове покриття, яке покращує провідність і запобігає окисленню.

Закриті канальні форми мають набагато стабільніші кінцеві структури / Фото NC State University

Але є одне "але"

Хоча метод демонструє вражаючу ефективність, наразі він дозволяє досягти ширини дроту від 44 нм до 1000 нм, що не відповідає найсучаснішим технологіям виробництва мікросхем, таким як 2 нм технологічний процес TSMC. Попри це обмеження, простота і швидкість нового методу роблять його придатним для багатьох застосувань, зокрема у фотоніці та електроніці.

Універсальність та ефективність методу

Виготовлені елементи є універсальними, чутливими як до світла, так і до електричного струму, що відкриває можливості для передових фотонних та електронних застосувань. Процес призводить до зменшення кількості дефектних елементів і значно прискорює темпи виробництва порівняно з сучасними методами виготовлення напівпровідників.

Як виготовляють процесори – дивіться відео:

Дивіться також Учені випадково дізнатися точну форму фотона, окремої частинки світла

Цей інноваційний підхід має потенціал доповнити традиційні методи виробництва мікросхем, пропонуючи спрощену та економічно ефективну альтернативу для певних випадків використання, що може революціонізувати цілу галузь.